Quantera II Quantera II 扫描XPS探针

优点

操作简单

● 无论您是在分析一个薄膜样品、有机聚合物、一个大的塑料镜片、不锈钢刀片或焊锡球等，仪器所有的设置和设定都是相同的。操作者只需用鼠标在样品的光学图像上单击选择一个或多个分析区域，打开仪器的双光束中和系统和自动Z-轴高度调整功能，就可通过仪器软件的自动队列（Add Q）执行所有分析。整个操作流程不需要任何的设定调整，不用因样品成分不一致而有任何顾虑，甚至也不需要有操作员整天待在仪器旁边，一切的操作都可自动完成。

图1 - 全自动无人值守，分析无忧的XPS Quantera II

薄膜分析

● Quantera II 不仅提供了无机薄膜样品良好的深度剖面分析性能，而且也可利用 C₆₀ 离子枪对有机薄膜得出非常*的深度分析结果。

图2 - (左) 以2 keV 氩离子溅射源对一个半导体封装的锡球表面进行深度分析；

(右) 使用10 keV C₆₀离子源，对50/50 Rapamycin和PLGA的薄膜进行深度分析。

扫描 XPS探针

● PHI Quantera II 使用了聚焦扫描X射线源，使XPS微区分析变得更高效。如图4所示，X射线源是经由聚焦电子光栅扫描并撞击在铝阳极上所产生的，由此产生的聚焦铝X射线会再透过椭球形状的单色器反射在样品表面上。当电子束扫描在铝阳极上时，所产生的X射线束在样品上也会作出同步的扫描。X射线束的直径大小可调范围为 7.5 微米以下到 400 微米以上。

图3 - (a) PHI 的聚焦扫描X射线源说明。(b) 使用Quantera II 对MRS-3标样所生的二次电子像，可见

以Quantera II 可以分析到约直径为6微米区域的功能。

微区光谱

● 以下图5中聚合物表面异物样品为例。在光学显微镜下，透明的聚合物薄膜表面上未发现有任何污染物。而使用二次电子影像时就立即显示了聚合物表面上污染物的存在。在短短几分钟内，Quantera II 仪器就可利用一个直径为 20 微米的X射线束对污染物成分进行分析，从而确定为氟碳污染物。

图4 - Quantera II的污染分析。(a) 二次电子成像。(b) 多点采谱分析。(c) 碳 1s的图谱。 (d) 元素分布图（留意分布中右边较小点的污染不含有氟或碳）。 (e) 对较小的污染做点分析，使用7.5微米的X射线束确定了第二污染物含有锌的存在。

特点

● X射线探针 ≤ 5 微米的空间分辨率

● 高灵敏度的静电检测光学系统

● 双束中和系统

● 自动化的样品传输处理

● 仪器可容纳样品直径为 100 毫米，高度为 25 毫米

● 两个内部样品平台暂停区

● 高性能的离子枪

● 高速的深度分析

● 元素态或化学态的XPS成像

● 自动角分辨分析

● PHI MultiPak 数据处理软件

可选配件

● 样品定位系统 (SPS)

● 热/冷样品台

● 冷样品引入装置

● 样品传输管和外部测试站

● C₆₀ 离子枪

● Ar₂₅₀₀ GCIB 离子枪

应用范围

● 化学：化学涂料，聚合物，催化剂

● 材质：金属，薄膜，纳米材料

● 电子：半导体，磁盘，微电子技术和显示技术

● 生物医学与生物医学设备