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产品描述
该设备采用的溅射方式，镀膜均匀、干净。样品温度受控，贵金属靶材利用率高。四靶均配有挡板，并配有驱动装置可手动打开。
样品架采用行星轮结构，可实现样品的定点自转和公转同时进行。样品可进行射频反溅，也可加偏压。
技术参数
1．腔室尺寸：Φ（600-800）×450（根据实际情况调整）；
2．空载极限真空：3×10-4Pa
3．工作本底真空：8×10-5Pa；
4．样品架一次可承载3-40块80×13×0.5的样品；
5．溅射靶：采用长方形靶；
6．薄膜均匀性：±10%。
