多功能磁控溅射镀膜机-苏州中科科美科技有限公司手机版

产品简介

磁溅射镀膜机是一种普适镀膜机，用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。

应用领域

磁溅射镀膜机是一种普适镀膜机，用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。

可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦可镀铁磁材料。

主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。

技术参数

1．极限真空压力：9×10-5Pa

2．靶直径(mm)：50

3．靶单位面积功率（W/cm2）：20

4．靶电源功率（W）：DC1000；RF500

5．基片加热温度：室温-500℃ 可控

6．恢复真空抽气时间（min）：<30

7．基片沉积速率（nm/s）：3

8．气体流量：0-200slm

9．电压（KV）：0-35可调

10．束流（NA）：≤100

11．扫描面积（mm2）：120×120

12．束斑尺寸（mm）：2-10