PDMS微流控芯片制作系统 EasyPDMS

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2024-05-27 09:19:01
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产品简介

PDMS微流控芯片制作系统EasyPDMS图片简介PDMS芯片制作一般包含以下所列举工艺:①清洗;②匀胶;③曝光光刻;④显影;⑤烤胶;⑥PDMS成型;⑦等离子表面活化处理;⑧键合;⑨打孔

详细介绍

PDMS微流控芯片制作系统 EasyPDMS


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简介

PDMS芯片制作一般包含以下所列举工艺:① 清洗;② 匀胶;③ 曝光光刻;④ 显影;⑤ 烤胶;⑥ PDMS成型;⑦ 等离子表面活化处理;⑧ 键合;⑨ 打孔。EasyPDMS微流控芯片制作系统可以提供完成以上各工艺流程的整套系统或单个设备。

用户可以根据自己的需求从设备列表中选取所对应工艺的设备,同时,我们也提供PDMS芯片制作实验室的整体方案设计和搭建服务,从洁净间设计到实验室布局,再到设备选择,以及用户采购后的安装调试及培训, 客户只需要提出需求,我们提供一整套服务,可以做到交钥匙工程。

 

工艺及设备对应表格:

工艺名称

设备仪器名称

型号

清洗

等离子清洗机

CUTE

超声清洗机

市售标准型号

匀胶

匀胶显影机

SC100

PDMS成型机

ZentriForm

曝光光刻(2选1)

曝光机

UV-KUB 2

UV-KUB 3

显影(2选1)

匀胶显影机

SC100

简易显影池

客户自备

烤胶

精密热板

HP100

PDMS成型(2选1)

PDMS成型机

ZentriForm

培养皿/热板

客户自备培养皿/HP100

表面活化处理

等离子清洗机

CUTE

键合

精密热板

HP100

打孔

打孔器

PDMS Port Creator

打孔针

市售标准型号

 


格参数


项目

参数

适用芯片

PDMS芯片制作

最小结构分辨率

2um

处理基板尺寸

4”(φ10cm)

 

功能图解


设备简介

 

 清洗工艺:超声清洗机(左)和CUTE 等离子清洗机(右)

 

 

② 匀胶工艺(2选1)SC100匀胶显影(左)和ZentriForm PDMS成型机(右,具备匀胶功能)

 

 

曝光光刻(2选1):UV-KUB 2单层光刻机(左)和UV-KUB 3对位光刻机(右)

 

④ 显影SC100匀胶显影机

 

⑤ 烤胶:HP100 精密热板

 

 

⑥PDMS成型:ZentriForm PDMS成型机

 

 

⑦等离子表面活化处理:CUTE 等离子清洗机

 

 

⑧键合:HP100 精密热板

 

 

⑨打孔:打孔器

 

应用系统


PDMS芯片制作

 

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