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EVG 620BA 对准系统通过使用高精度的测量传感器，如相机或扫描仪，来确定样品的对齐情况，并使用控制系统对样品进行微调，以确保样品的精确对齐。
主要特点
● 高精度：通过高精度的测量传感器来确定样品的对齐情况，以保证样品的精确对齐
● 高速度：通过快速的控制系统，系统可以快速地对样品进行微调，以确保样品的精确对齐
● 高可靠性：EVG 620BA 对准系统经过了严格的质量控制和测试，以保证其高可靠性和可靠性
主要应用领域
● 光学键合：通过精确对齐样品来保证光学键合的高质量
● 光刻：精确对齐样品以确保光刻的高质量
● 光电处理：通过精确对齐样品来保证光电处理的高质量
● 其他光学处理应用：EVG 620BA 对准系统可用于其他光学处理应用，如微纳光学等
