直流溅射工作原理：

1.低气压下（一定的真空度）气体的辉光放电现象：

2. 靶材接高压，本设备为-2400V，为负极；样品台接地，为正极；

3. 靶材与样品台之间形成电场，电离气体，可用空气、Ar、N2；

4.气体电离后，正离子飞向负极，轰击靶材，靶材原子被溅射飞出，沉积到样品上形成导电膜；

5.电子或负离子在电场的作用下，飞向样品台，会加热样品，溅射电流10mA，溅射时间1分钟，样品台温度约为60℃

工作特点：溅射电流随压力变化，压力升高，溅射电流才能增加；

          压力升高、电流变大、溅射颗粒变大，热损伤随之加剧。

应用领域：非热敏性样品，如无机盐类粉体等，性价比较高

                 适用于普通钨灯丝扫描电镜、台式电镜等

GVC-1000/1200离子溅射仪

金靶

颗粒尺寸20~50nm

产品特点：

一、安全

1．高压线多重防护，外加8×5透明真空管，安全；

2．外壳良好接地；

3．真空互锁；

4．电流＞50mA，真空度超过100Pa，系统自动切断溅射；

5．实体按键，安全；

6．溅射头采用阻尼设计，任意位置悬停

二、信息量大

1．溅射过程中真空度和溅射电流以曲线方式实时显示，简单直观；

2．靶材使用时间，仪器使用时间系统自动记录，直观了解设备的运行状态。

三、快速上手

       设备内置操作向导，在操作人员更换时，无需培训，即可快速熟练操作设备。

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