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传统的清洗方式是利用去离子水冲洗芯片，这种方式中，去离子水以很高的流量冲击芯片，将芯片上的杂质和污染物冲走，从而达到清洗效果。但是这种清洗方法对芯片的冲击力过大，容易造成元件图案的损坏，并且这种清洗方式的去离子水的利用率低，导致资源浪费。另一种清洗方式是采用盐酸或氢氟酸进行浸泡清洗，然而，此种清洗方法的清洗效果不佳，表面残留的溶液会对芯片表面造成腐蚀。
为了弥补传统工艺中的不足，莱特莱德提供更为稳定的超纯水系统，具有工艺简便、成本低、性能*、耐久性能好、适用范围广等优点，可高效去除芯片表面上的残留物，防止对芯片造成腐蚀，从而提高芯片的使用寿命。
