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在半导体制程中，制作集成电路的尺寸越来越小，晶圆上的组件也随之缩小，使得各种有机物、粒子的接触污染及各机台导致的金属杂质等污染物大于或相当于组件尺寸的现象更严重，若在半导体制程中有污染物残留在晶圆表面上，将造成组件短路或缺陷，导致集成电路无法使用，因此，半导体制程中不允许晶圆表面上残留有污染物，污染物的去除是半导体制程中非常重要的技术。
超纯水是半导体元件中用水的重要保障，莱特莱德超纯水设备严格遵循《电子级水GB-T11446.1-2013》超纯水标准，采用靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，保证出水硼离子能够稳定≤5ppt。可有效去除水中各种离子、微生物、杂质、气体及有机物，使产水水质满足生产工艺用水水质要求。
