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连续式四探针片电阻及光学膜厚测量设备

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铂悦仪器自2004年成立以来,凭借与世界各大仪器的战略合作关系,以及不断优化公司自身经营管理,提高服务质量,成为中国国内的仪器供应商。铂悦仪器所提供的产品均属于高科技行业,产品包括高精度的分析仪器、检测仪器和生产设备,以及配套的耗材和配件,这些产品广泛应用于半导体、工业、太阳能、医药、医疗器械、生物、能源、电子、石化等各个领域并服务于各大院校、研究所、检测机构、及政府部门等

铂悦仪器不仅拥有高品质的产品,更培养了专业的销售、技术和售后服务团队,本着客户*的原则,从客户的实际需求出发,铂悦仪器为每一位客户量身订制Z适合的综合解决方案,并提供持续而良好的售后服务,由此也获得了广大客户的信任与认可。

铂悦仪器的总公司设立在上海,并在北京、广州、成都、香港、加拿大设立了办事处,在能及时引进*进技术的同时,保证了铂悦仪器能快速、有效的为全国各地的客户提供良好的服务。


企业文化: CREDIT

C- Confidence: 自信

R- Responsibility: 责任心

E- Efficiency: 效率

D-Diligence: 勤奋

I- Intelligence: 机智

T- Trust: 信任


详细信息

连续式四探针片电阻及光学膜厚测量设备设计, 片电阻不受针尖距离影响多种型号以供选择: 
自动上下片(Cassette to cassette, C2C) 
室温至100°C 的测量(更高可选)
可添加并整合于多腔式的集束型架构设备(cluster tool) 

亦可在连续式设备内加入四探针片电阻及光学膜厚测量, 适合薄膜太阳能(铜铟镓硒, CIGS)及平板显示行业

基材尺寸: 
450mm晶圆 (样品台旋转)
370 x 470mm 长方形基底 (XY样品台)
连续式设备可以度身订做, 没有尺寸限制 
片电阻测量适合金属薄膜、铜铟镓硒、非晶硅(硅)、碲化镉、钼、透明导电薄膜(AlZnO2)、掺杂之后的硅(硅)、硅锗及锗 
0.1 – 100,000 单位面积奥姆值 (更高可选) 

可整合于连续式(INLINE)的生产线内, 而收集的测量数据可自动送到SCADA系统
光学膜厚测量功能可选 
测量光斑<1mm
波长: 380-1050nm
可测量膜厚: 15-50nm, 多可达250nm
短时间重复性: ~0.1nm 
长时间重复性:: ~0.1nm 

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