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620NT 620NT 光刻机
- 型号
- 620NT
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上海德竹芯源科技有限公司是一家专注于功率器件、光电器件、射频器件、量子器件、MEMS传感器领域的设备销售、系统集成、设备国产化的公司。主要为高校、研究所、中试量产线及晶圆FAB厂提供半导体工艺设备、检测设备、封装设备、测试设备。目前公司已成为国内少数几家专业提供半导体工艺、检测、封装、测试整体解决方案的企业。公司主要成员为复旦大学、上海微系统所等半导体相关专业博士，拥有一支经验丰富、技术过硬的团队。能够出色地完成售前售中、售后的服务。目前公司已与众多国际半导体设备企业建立了良好的合作关系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等)，致力于根据用户的科研方向和量产的器件类别提供相应的全套设备选型和工艺整体解决方案。
详细信息
主要特点及参数
● 高效率：采用的光学技术，缩短了生产周期，提高了生产效率
● 高精度：通过对光学系统的精细调整，保证图像的精确性
● 易操作：系统控制简单方便，易于生产操作
● 设备安全：系统采用安全设计，确保生产过程中的人员和设备安全
● 技术支持：提供专业的技术支持和售后服务，保证系统的正常使用
● 光刻材料：支持多种光刻材料，包括硅片、玻璃片、聚碳酸酯等
● 半导体工艺：支持常用的半导体工艺，如薄膜沉积、光刻、蚀刻等
● 光刻工具：支持常用的光刻工具，如光刻掩膜、光刻模板等
● 分辨率：可达到 100 nm
● 工作面积：620 mm × 620 mm
● 光源：KrF 激光
● 光路系统：F-Theta 镜
EVG 620NT 光刻机的工艺过程大致如下：
1. 材料准备：选择适当的光刻材料，如硅片、玻璃片等，进行表面处理
2. 掩膜制作：根据生产要求，制作光刻掩膜，并确保掩膜的精确性
3. 样品处理：将样品固定在工作台上，并确保样品的稳定性
4. 光刻操作：打开光刻机，根据生产要求，对样品进行光刻处理
5. 样品检查：检查样品的质量，确保其符合生产要求
● 分辨率：可达到 100 nm
● 工作面积：620 mm × 620 mm
● 光源：KrF 激光
● 光路系统：F-Theta 镜
