产品介绍：P-20R 卷对卷等离子刻蚀系统

P-20R卷对卷等离子系统是一款专门配备连续给料驱动的等离子系统，适用于连续柔性基片及卷装材料。 卷对卷等离子系统可以喂入宽幅为50.8毫米至609毫米，轴径为254毫米的成卷材料。

卷对卷等离子刻蚀系统纵览

卷对卷等离子刻蚀系统提供较高的重复性、可靠性、长寿命，以及维护成本低等特点。 反应离子刻蚀（RIE）电极提供了*的定向等离子体刻蚀效果。

在大型全铝真空舱内进行卷对卷等离子刻蚀，舱内可容纳较大等离子处理空间。

卷对卷等离子刻蚀系统特点

配备的标准真空泵是特别准备氧气服务，是一款全备氮气N2吹扫功能的卷对卷等离子刻蚀系统；可防止任何腐蚀性残留物质在真空泵内形成，从而延长了真空泵的使用寿命，减少了维护周期。 等离子处理成卷材料，无论大小，PTFE，聚酰胺，软硬结合电路，你会发现所有这些材料均被均匀地蚀刻和清洗，等离子处理完毕以备下一个生产工艺步骤使用。

简单易用，直观的触摸屏界面提供等离子操作界面，控制等离子刻蚀的各个方面，确保等离子工艺的可靠性和重复性。

P-20R卷对卷等离子体系统一般是用来等离子体处理成卷材料。 处理材料运输装置配有制动系统，张力控制和速度控制单元。 双微机操作控制系统控制记录等离子工艺参数及控制操作，另外控制材料运输装置参数。卷对卷等离子刻蚀系统占板面积会根据材料运输装置的情况有所不同。

卷对卷等离子刻蚀系统规格

标准卷对卷等离子刻蚀系统特点
电极设置：水平定向RIE（反应离子刻蚀） 183厘米水平电极；
射频电源：3000瓦@13.56MHz射频电源，自动匹配网络；
工艺过程温度控制：677摄氏度~1649摄氏度；
工艺气体控制：双通道0-2000 CC /分钟 质量流量控制器 （MFC）；
气压监控：多达4通道低气体报警器；
真空监测系统：皮拉尼真空计0-1托；
控制器系统：微处理器系统，多序列存储功能；
真空泵浦系统：59CFM氧气服务真空泵系统；真空泵增压风机355 CFM ，配备3微米真空泵油滤芯，自动氮气N2吹扫功能；可控N2（氮气）真空舱吹扫流量；真空泵油雾分离器；
双处理序列；

卷对卷等离子刻蚀系统配套卷装材料运送单元
开环张力控制驱动电机，配备磁粉离合器；
闭环速度控制铁磁流体真空馈通；
卷数记，线速度，张力设定点手动或自动的慢跑/速度控制；

卷对卷等离子刻蚀系统规格
电源：220 VAC/1/50Hz
系统重量（等离子刻蚀系统/真空泵）900/70公斤
等离子刻蚀系统外部尺寸：305cm X 115cm X 200cm
真空泵外部尺寸： 41cm X  76cm X 43cm

卷对卷等离子刻蚀系统设备外部安装要求
压缩空气:0.55~0.70 MPa，14升/分钟
卷对卷等离子刻蚀系统环境温度：29摄氏度
卷对卷等离子刻蚀系统工艺气体：0.17~0.21MPa,
闭环冷却水源

卷对卷等离子刻蚀系统其它可选配置
计算机控制系统/触摸屏数据报告、事件查看、打印；
信号灯塔；
干式真空泵79/355 CFM
真空节气门控制器；
质量流量控制器，zui多达4通道；
根据客户的规格定制真空舱和电极

卷对卷等离子刻蚀系统其它可选配置
冷却水再循环闭环
烟气洗涤塔填料床
压缩空气干燥机（吹扫气体发生器）

如果您对该卷对卷等离子刻蚀系统感兴趣，请随时。

天域实验器材营销服务中心
（美国GIK等离子系统*经销商）

：Emily

：,2651297

电邮: sales@hvscientific.com : www.hvscientific.com