产品介绍：P-20工业用台式等离子刻蚀系统

P-20工业用台式等离子刻蚀系统是我们一款用于工业强度的台式等离子体蚀刻系统，和配备氧服务真空泵。 该款强大的功能强、可靠的性能、经济适用的台式等离子刻蚀 是专门为每天24小时、每周7天的繁忙工业领域客户而制造。

P-20台式等离子蚀刻系统具有三个*的等离子工作模式：
1）反应离子蚀刻（RIE），
2）普通的等离子清洗（Plasma Cleaning）和等离子体刻蚀（Plasma Etching）
3）P-10具有多功能等离子工艺配置，一台具备各向异性（anisotropic）和各向同性（isotropic ）等离子刻蚀处理的系统。 并且配有可拆卸的托盘设置。

纵览

全铝合金材质真空舱可以容纳超过3200平方厘米的处理表面，采用进行表面改性增加绝大部分材料表面的粘结强度和清洁度。

小规模生产企业、研发实验室、检测中心和大学是该款台式等离子刻蚀系统的主要用户。台式等离子刻蚀系统的行业用户包括生物医学，牙科，电子，轻工，医药，塑料，光学，太阳能电池的边缘隔离蚀刻，太阳能电池板等。

特点

采用而非化学试剂槽消除不必要且昂贵的化学试剂废物排放。简单易用，直观的触摸屏界面提供等离子操作界面，控制等离子刻蚀的各个方面，确保等离子工艺的重复性。
我们可以定制的真空舱和电极配置，以适合您的产品或过程，包括自定义尺寸的水平电极，RIE（反应离子刻蚀）和半导体引线框架料盒。

规格

标准特点
真空舱体材质：铝合金
电极设置：3套规格为 33cm X 41cm 电极，每套电极板间隔7.6cm
射频电源：300瓦@13.56MHz射频电源;自动匹配器网络 
工艺气体控制：单套200 SCCM质量流量控制器 （MFC）
真空监测系统：皮拉尼真空计0-1托
控制器系统：微处理器系统，配备触摸屏界面
工艺程序存储功能：可存储多达20个双步骤程序
真空泵浦系统：29CFM氧气服务真空泵系统，配备3微米真空泵油滤芯

可选配置
静电屏蔽；
等离子工艺温度控制；
600瓦@13.56MHz射频电源;自动匹配器网络； 
59 CFM氧气服务真空泵系统；
自动两点氮气吹扫系统，延长真空泵使用寿命；
信号灯塔、 MKS自动真空节气门控制器
另外2套质量流量控制器（共3套）
软件可选5路工艺气体输入切换矩阵控制
可控N2（氮气）真空舱吹扫流量
真空泵排气口配备油雾凝聚式过滤器；
定制真空舱尺寸和配置
定制电极的大小和配置
RIE（反应离子刻蚀电极）配置

其它可选配置
填充床烟气洗涤器
压缩空气干燥机，用于真空泵吹扫供气

规格
电源：220 VAC/1/50Hz，30A
系统重量（/真空泵）160/85公斤
外部尺寸：92cm X  92cm X 81cm
真空泵外部尺寸：41cm X  81cm X 51cm

设备外部安装要求
电源：380/3/50 Hz
压缩空气：0.55~0.70 MPa，14升/分钟
工艺气体压力：0.1~0.2MPa,
系统环境温度：29摄氏度

如果您对该感兴趣，请随时。

天域实验器材营销服务中心
（美国GIK等离子系统*经销商）

：Emily

：,2651297

电邮: sales@hvscientific.com : www.hvscientific.com