成都真空厂家 大口径等离子刻蚀机 可定制

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2023-12-05 17:17:24
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成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀机 半导体刻蚀 离子束刻蚀 反应离子刻蚀 可定制

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●本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。


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