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烘胶机(烤胶机)
英文叫hot plate,又称烘胶机、热板。
ET系列烤胶机(热板)适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆后,薄膜烘干,固化。热板温度稳定度高,重复性好。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。
150X150mm 烘胶机
型号 | 参数 |
1、温度范围:室温-400℃,温控连续可调。 | |
2、恒温波动度:±0.5℃ | |
3、温度均匀性:±3%(温度时,工作台板上各处温度均匀性) | |
4、定时范围:0-999分钟(当定时设定为0时,定时不起作用) | |
5、电源电压:单相110-240V供电 | |
6、加热板尺寸:200X200mm | |
7、仪器尺寸:210×220×160mm | |
8、重量:6.5KG | |
1、温度范围:室温-500℃,温控连续可调。 | |
2、恒温波动度:±0.5℃ | |
3、温度均匀性:±3%(温度时,工作台板上各处温度均匀性) | |
4、定时范围:0-999分钟(当定时设定为0时,定时不起作用) | |
5、电源电压:单相110-240V供电 | |
6、加热板尺寸:200X200mm | |
7、仪器尺寸:210×220×160mm | |
8、重量:6.5KG |
1、加热板直径170mm,适合6"圆晶烤胶;
2、可手动控制真空吸附,使基片更紧密接触加热面板;
3、高精密数显温控表,可实现分段线性程序控温;
4、全阳极氧化铝机身,美观大方;
5、加热独立电路控制,方便开始和停止加热;
6、特殊的隔热设计和长寿命、高均匀性发热部件采用;
7、带热辐射保护盖,微晶隔热面板,更高的热均匀性。
8、稳定性能非常好,温度稳定度可达±0.5℃。
9、温度调节范围宽:室温-500℃
10、采用闭环控制,升温速度快。
11、具有定时功能。同时带倒计时显示功能。
12、采用数字按键控制温度与时间,温度与时间设定更加精确。
13、机身全部采用不锈钢,耐酸耐碱耐腐蚀。
14、针对客户基片尺寸大小,提供加热板定制服务。
烤胶机 晶元图片
烤胶机产品结构图解
名称 | 单位 | 数量 |
烘胶台机体 | 台 | 1 |
电源线 | 份 | 1 |
使用手册 | 份 | 1 |
质检报告 | 份 | 1 |
合格证 | 份 | 1 |
保修卡 | 份 | 1 |
注:清点包装箱内的附件和印刷资料,箱内的附件和资料请按照装箱清单对照检查。