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IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨（Flat Milling®*1）的混合式离子研磨仪器。借此，可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等，为评价目的样品的制作。
配备断面研磨能力达到500 µm/h*2以上的高效率离子枪。因此，即使是硬质材料，也可以高效地制备出断面样品。
断面研磨加工原理图
平面研磨（Flat Milling®）加工原理图
附冷却温度调节功能的IM4000PLUS
该功能可有效防止加工过程中，由于离子束照射引发的样品的温度上升，所导致样品的溶解和变形。对于过度冷却后会产生开裂的样品，通过冷却温度调节功能可防止其因过度冷却而产生开裂。
常温研磨
冷却研磨
大气隔离样品杆，可让样品在不接触空气的状态下进行研磨。
密封盖将样品密闭，进入真空排气的样品室后，打开密封盖。如此，离子研磨加工后的样品可以在不接触空气的状态下直接设置到SEM*1、FIB*1、AFM*2上。
大气暴露
大气隔离
IM4000、IM4000PLUS通过设置在样品室上方的立体显微镜，可观察到研磨过程中的样品。
如果是三目型，则可以通过CCD摄像头*3进行监控观察。
| 项目 | 内容 | |
|---|---|---|
| IM4000PLUS | IM4000PLUS | |
| 断面研磨杆 | 平面研磨杆 | |
| 使用气体 | Ar（氩）气 | |
| 加速电压 | 0 ～ 6 kV | |
| 研磨速度（Si材料） | 500 µm/hr*1 以上 | - |
| 样品尺寸 | 20（W）× 12（D）× 7（H）mm | Φ50 × 25（H） mm |
| 离子束 间歇照射功能 | 标配 | |
| 尺寸 | 616（W）× 705（D）× 312（H）mm | |
| 重量 | 机体48 kg＋回转泵28 kg | |
| 附冷却温度调节功能的IM4000PLUS | ||
| 冷却温度调节功能 | 通过液氮间接冷却样品、温度设定范围：0°C ～ －100°C | |
| 选项 | ||
| 空气隔离 样品夹持器 | 仅支持断面研磨夹持器 | - |
| FP版断面研磨夹持器 | 100 µm/rotate*2 | - |
| 用于加工监控的显微镜 | 倍率 15 × ～ 100 × 双目型、三目型（支持CCD） | |
如果是大约500 µm的角型的陶瓷电容器，则可以3小时内制备出平滑的断面。
低倍图像
放大图像
即使硬度和成分不同的多层结构材料，也可以制备断面。
低倍图像
放大图像
这是通过锂电池正极材料，断面研磨获得平滑截面的应用实例。
在SEM上观察到的具有特殊对比度的部位，从SSRM（Scanning Spread Resistance Microscopy）图像来看，考虑为电阻低的部位。
可以去除机械研磨所引起的研磨损伤和塌边，并可观察到金属层、合金层和无铅焊料的Ag分布。
机械研磨后
平面研磨后
因老化等变得脏污的观察面、分析面，通过平面研磨，也可以获得清晰的通道对比度图像和EBSD模式。
