LT3B-OM UHV显微型连续流低温恒温器

LT3B-OM UHV显微型连续流低温恒温器

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2021-11-06 13:55:29
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天津多为莱博科技有限公司

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产品简介

详细介绍

 

LT3B-OM恒温器专为UHV显微拉曼设计,可烘烤至150℃,所有法兰通用铜片密封。也适用于其它各类低振动要求的光学显微实验。窗口专为科学实验而设计,可现场更换。

 

典型应用

• 光学显微

• 显微拉曼

• 量子点

• 光致发光

• 显微-光致发光

• 光电实验

• 磁光实验

 

典型特点

• 连续可调样品高度

• 1.52英寸的高度

• 纳米级振动

• 液氦流

• 基质热交换

• 同轴流屏蔽层流

• 4 K 液氦操作 (泵抽可达1.7 K)

• 4.2K下液氦消耗率为0.7 LL/hr 

• 兼容液氮(77 K操作)

• 流量控制

 

标准结构

• LT3-OM冷台

• 同轴流动液氦传输管线

• 不锈钢仪表群

• 杜瓦置适配器

• 流量板面用于液氦流速控制及优化

• 镍镀金无氧铜防热辐射屏

• 供温度测试和控制的仪表群:

• 10 针密封电学接头

• 36 欧姆片状加热器

• 为控温而备的精度为± 0.5 K的硅二极管温度计

• 精度为±12 mK的校准型硅二极管温度计(带4英尺线缆供样品的测试)

• 用于光学实验的平板样品座

• 温控仪

 

可选配置及升级选项

• 传输升级

• 为于磁体室温孔匹配

• 液氦传输管线

• 高温台

• 更高温台

• 可定制温度计结构

• 可定制接线结构

• 可定制窗口材料

• 可定制样品座

 

技术参数

冷却技术

LT3B

开环制冷,Helitran

制冷方式

液氦流

制冷剂

液氦,可兼容液氮

温度

LT3B

< 4.2K - 350K (泵抽情况下<2K)

800K高温台

(温+2K-700K

450K高温台

-450K

温度稳定性

0.002K

样品空间

直径

大,开放式防热辐射屏

高度

大,开放式防热辐射屏

 

恒温器型号

LT3B

制冷剂

液氦

温度

4.2K

泵抽情况下<2K

4.2K下液氦消耗

0.7LL/hr

 

制冷量

0.7LL/hr

2LL/hr

4.2K

0.5W

1.5W

20K

3.0W

8.0W

50K

7W

20W

制冷时间

20分钟

 

结构图

 

 

典型案例

 

麻省理工学院的Comin实验室,LT3B OM低温恒温器安装在两维移动平台上用于样品校准。
由Riccardo Comin教授提供。

装在Horiba拉曼光谱仪上用于超高真空环境的LT3B-OM

 

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