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GM2000实验室高剪切胶体磨
高校研究院实验室胶体磨,试验室胶体磨,小型胶体磨,德国实验室胶体磨,高转速实验室胶体磨
此款实验室胶体磨比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,研磨效果非常好,转速可以达到14000RPM。
高校研究院实验室胶体磨的研磨效果
影响研磨粉碎结果的因素有以下几点:
1.胶体磨磨头头的剪切速率(越大,效果越好)
2.胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
3.物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
4.循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,便不能再好)
线速度的计算:
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率(s-1)= v速率(m/s)
g定-转子间距(m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距。
IKN定-转子的间距范围为0.2~0.4mm
速率V=3.14XD(转子直径)X转速RPM/60
实验室胶体磨 ,实验室中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
实验室胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,实验室中试型胶体磨用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
GM2000/4实验室胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 实验室胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。实验室胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
GM2000实验室高剪切胶体磨设备选型表:
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
GM2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GM2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GM2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GM2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GM2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GM2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |