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PICOSUN™ ALD R-200 Advanced 原子层沉积系统（ALD R-200 Advanced）
- 型号
- PICOSUN™ ALD R-200 Advanced
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北京正通远恒科技有限公司成立于2001年，是一家经营欧美等国*科学测试仪器和设备，并将技术引入国内的科技服务型企业。目前，公司在北京、上海、广州、深圳、合肥、苏州均设有办事处。
公司用受人尊敬的、专业的方式来经营公司的业务（HONOPROF comes from our philosophy---- doing business in an HONOurable and PROFessional way）。
公司的主营仪器包括：分子相互作用分析仪器、机器视觉仪器、表/界面分析测试仪器、界面/混凝土流变仪、薄膜沉积与表征仪器等。
公司愿景：公司愿意成为深刻了解客户心理、全面满足客户需求，以应用为基础的专业仪器设备供应商、专有技术提供商，实现公司在行业内的超常规发展。
详细信息
名称：原子层沉积系统
品牌：PICOSUN
产地：芬兰
型号：PICOSUN™ ALD R-200 Advanced
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现的均匀性，包括挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的，分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN™ R系列独特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN™ P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN™反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中，就会吸引到企业投资。
品牌：PICOSUN
产地：芬兰
型号：PICOSUN™ ALD R-200 Advanced
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现的均匀性，包括挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的，分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN™ R系列独特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN™ P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN™反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中，就会吸引到企业投资。
