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PDMS微流控芯片制作系统 EasyPDMS
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简介
PDMS芯片制作一般包含以下所列举工艺:① 清洗;② 匀胶;③ 曝光光刻;④ 显影;⑤ 烤胶;⑥ PDMS成型;⑦ 等离子表面活化处理;⑧ 键合;⑨ 打孔。EasyPDMS微流控芯片制作系统可以提供完成以上各工艺流程的整套系统或单个设备。
用户可以根据自己的需求从设备列表中选取所对应工艺的设备,同时,我们也提供PDMS芯片制作实验室的整体方案设计和搭建服务,从洁净间设计到实验室布局,再到设备选择,以及用户采购后的安装调试及培训, 客户只需要提出需求,我们提供一整套服务,可以做到交钥匙工程。
工艺及设备对应表格:
工艺名称 | 设备仪器名称 | 型号 |
清洗 | 等离子清洗机 | CUTE |
超声清洗机 | 市售标准型号 | |
匀胶 | 匀胶显影机 | SC100 |
PDMS成型机 | ZentriForm | |
曝光光刻(2选1) | 曝光机 | UV-KUB 2 |
UV-KUB 3 | ||
显影(2选1) | 匀胶显影机 | SC100 |
简易显影池 | 客户自备 | |
烤胶 | 精密热板 | HP100 |
PDMS成型(2选1) | PDMS成型机 | ZentriForm |
培养皿/热板 | 客户自备培养皿/HP100 | |
表面活化处理 | 等离子清洗机 | CUTE |
键合 | 精密热板 | HP100 |
打孔 | 打孔器 | PDMS Port Creator |
打孔针 | 市售标准型号 |
规格参数
项目 | 参数 |
适用芯片 | PDMS芯片制作 |
最小结构分辨率 | 2um |
处理基板尺寸 | 4”(φ10cm) |
功能图解
设备简介
清洗工艺:超声清洗机(左)和CUTE 等离子清洗机(右)
② 匀胶工艺(2选1):SC100匀胶显影(左)和ZentriForm PDMS成型机(右,具备匀胶功能)
曝光光刻(2选1):UV-KUB 2单层光刻机(左)和UV-KUB 3对位光刻机(右)
④ 显影:SC100匀胶显影机
⑤ 烤胶:HP100 精密热板
⑥PDMS成型:ZentriForm PDMS成型机
⑦等离子表面活化处理:CUTE 等离子清洗机
⑧键合:HP100 精密热板
⑨打孔:打孔器
应用系统
PDMS芯片制作