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原子层沉积系统
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详细信息
主要特点 / MAIN FEATURE
主要特点 / MAIN FEATURE
● 样品类型：粉体样品，旗形样品，其他样品类型可定制
● 可与超高真空XPS，STM，及其他UHV系统互联
● 腔体加热400℃，控温精度±1℃
● 复杂管气路，可最多具备八种前驱体、两路氧化还原气路和三路载气
● 设计的高温鼓泡器，可提高低蒸气压固态源反应效率和重复性
● 自动化控制系统，可自行编程实现不同类型ALD样品生长
● 控制系统带安全互锁报警功能
● 采用PID自动控温，带模糊算法自整定
● 全金属密封，适用于腐蚀性反应
● 实时测控气体流量和监测真空度
● 在线原位分析气体成分
● 自带臭氧发生器，反应残留物热分解装置
● 样品类型：粉体样品，旗形样品，其他样品类型可定制
● 可与超高真空XPS，STM，及其他UHV系统互联
● 腔体加热400℃，控温精度±1℃
● 复杂管气路，可最多具备八种前驱体、两路氧化还原气路和三路载气
● 设计的高温鼓泡器，可提高低蒸气压固态源反应效率和重复性
● 自动化控制系统，可自行编程实现不同类型ALD样品生长
● 控制系统带安全互锁报警功能
● 采用PID自动控温，带模糊算法自整定
● 全金属密封，适用于腐蚀性反应
● 实时测控气体流量和监测真空度
● 在线原位分析气体成分
● 自带臭氧发生器，反应残留物热分解装置
ALD 系统性能测试数据 / ALD TEST DATA
ALD 系统性能测试数据 / ALD TEST DATA
技术参数 / TECHNICAL DATA
技术参数 / TECHNICAL DATA
| 主腔体 | 腔体尺寸 | 内径40mm ×长度 980mm，可定制其他尺寸 |
| 材质 | 316SS | |
| 工作温度 | RT~400℃ | |
| 控温精度 | ±1℃ | |
| 前驱体运输 | 4个低温前驱体源 | (CH3)3Al，(CH3)3Ge，H2O etc |
| 4个高温前驱体源 | Fe(Cp)2， | |
| 控温精度 | ±1℃ | |
| 气体流量控制 | 5路气体流量控制，流量范围0~500sccm | |
| 载气 | N2，Ar | |
| 反应气 | O2/O3，H2 | |
| 控温路数 | 最多48路，控温精度±1℃ | |
| 阀门控制路数 | 最多24路，控制精度15ms | |
| 控制系统 | 主控单元，加热单元，测温单元 | |
| 软件控制 | LabVIEW 图形化设计，PID自动控温、带模糊算法自整定，可编程带安全互锁报警功能 | |
| 可选模块 | 残余气体分析模块 | |
| 等离子体模块 | ||
| QCM原位监测模块 | ||
| 椭偏仪光学原位检测模块 | ||
| FRIT光谱原位检测模块 | ||
