引言
光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机工艺是由硅片处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影、坚膜、检测。其中光刻机的检测尤为重要光刻胶在显影后在烘烤硬化坚膜。对刻蚀和离子注入工艺非常关键。正胶的坚膜烘培温度约为120℃到140℃。温度太高会产生光刻胶流动。因此温度对于光刻的成品率起着重要的决定性因素。智测推出：光刻机曝光光学系统±0.01℃精度温度传感器

合肥智测电子有限公司的一款高精度热敏电阻测量产品，支持4线制热敏 电阻测量，测量zuida阻值250KΩ，精度±0.02℃。RS485接口支持MODBUS协议，包括MODBUS RTU和MODBUS ACSII协议，NTC测量模块采用24V直流电压供电，提供4线制热敏电阻温度测量，用户可输入NTC 特征参数，精度可达±0.02℃。模块配备了RS485通讯接口，支持MODBUS协议，可提供 用户二次开发。独立的电源开关可单独控制模块供电。

产品性能
灵敏度高,响应速度快
精度高
具有良好的绝缘密封性和抗机械碰撞
产品优势
小巧便捷
独立电源键
支持4线制热敏电阻测量

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