蔡司 SIGMA高分辨率场发射扫描电子显微镜

蔡司 SIGMA高分辨率场发射扫描电子显微镜采用成熟的GEMINI光学系统设计，分辨率超过0.8nm，为您提供zui高分辨率和*分析性能科研平台。Sigma500/VP专注于*的EDS几何学设计使您可以获取*的分析性能。借助Sigma直观便捷的四步工作流程可以快速成像、简化分析程序、提高工作效率。您会比以往更快、更多的获取数据。多种探测器的选择使Sigma500/VP可以精准的匹配您的应用程序：您可以获取微小粒子、表面、纳米结构、薄膜、涂层和多层的图像信息。
蔡司 SIGMA高分辨率场发射扫描电子显微镜【技术参数】
分辨率： 0.8nm @15   kV   1.6 nm @1kV
放大倍数：10-1,000,000×
加速电压：调整范围：0.02-30 kV（无需减速模式实现）
探针电流： 4pA-20nA （40nA&100nA可选）
低真空范围：2-133Pa（Sigma 500VP可用）
样品室： 358 mm（φ），270.5 mm（h）
样品台：5轴优中心全自动   
X=125 mm（可选130mm）
Y=125 mm（可选130mm）
Z=50 mm
T=-10o-90o
R=360o 连续
系统控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系统，可选鼠标、键盘、控制面板控制
【产品应用】   
扫描电镜广泛用于材料科学（金属材料、非金属材料、纳米材料）、冶金、生物学、医学、半导体材料与器件、地质勘探、病虫害的防治、灾害（火灾、失效分析）鉴定、刑事侦察、宝石鉴定、工业生产中的产品质量鉴定及生产工艺控制等。在材料科学、金属材料、陶瓷材料半导体材料、化学材料等领域，进行材料的微观形貌、组织、成分分析。各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体/晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。