CRF-VPO-8L-S 热熔玻璃低温等离子设备

真空式等离子处理系统CRF-VPO-8L-S

名称（Name）

真空式等离子处理系统

型号（Model）

CRF-VPO-8L-S

控制系统（Control system）

PLC+触摸屏

电源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz,3kw

中频电源功率（MF Power）

600W/13.56MHz

容量（Volume）

80L（Option）

层数（Electrode of plies）

8（Option）

有效处理面积（Area）

400（L）*300（W）（Option）

气体通道（Gas）

两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2

产品特点：超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。

可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。

保养维修成本低，便于客户成本控制。

高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。

应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。

 小型等离子清洗机比超声波更环保

小型等离子清洗机也叫常压（大气）等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁等目的。
常压等离子清洗机可选配多种类型喷嘴，使用于不同场合，满足各种不同产品和处理环境；设备尺寸小巧，方便携带和移动，节省使用空间；可In-Line式安装于设备产线中，减少投入成本；使用寿命长，保养维修成本低等优点。
小型等离子清洗机广泛应用于：
1．等离子表面活化/清洗；2.等离子处理后粘合；3. 等离子蚀刻/活化；4. 等离子去胶；5.等离子涂镀(亲水,疏水)；6.增强邦定性；7.等离子涂覆； 8.等离子灰化和表面改性等场合。
小型等离子清洗机比超声波更环保更高等级的清洗机（处理机），不需要清洗剂，对环境没有任何污染，使用成本低廉，能提高产品档次，提高产品质量，解决行业技术难题。刷电路板行业等离子清洗机等离子清洗机利用活性组分的性质来处理样品表面的

等离子清洗机是利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效(果)，是一种全新的高科技技术。等离子清洗机具备低温清洗的优势，满足不同场合温度要求，不会对清洗的产品造成温度影响。等离子清洗机清洗的原理主要是通过附着力、(活)化、清洁三步骤来完成的。附着力是指提高物品表面的附着力，提高表面粘接的可靠性；活(化)是通过大幅度提高表面的浸润性能，形成活性的表面；清洁主要是去除微笑尘埃，激(活)键能，精细清洗。等离子清洗在手机盖板应用(十)分广泛，手机盖板、手机玻璃、钢化膜等喷涂前需要采用等离子清洗，增加产品表面洁净度，可以明(显)提高表面的活性，从而增强附着效(果)。

等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁等目的。等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的"活性"组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。

等离子清洗机的清洗原理是等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子;处于激(活)状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。等离子清洗机的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活(化)作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。

 用；医疗诊断行业等离子清洗机应用：科研行业等离子清洗机应用：弹性体行业等离子清洗机应用，光学行业等离子清洗机应用：包装行业；汽车制造；纳米技术；精密仪器等。
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