Redox.me双槽锈蚀池应用
Redox.me双槽锈蚀池一个水平安装的双槽电池，通常用于硅晶片的阳极氧化，电解质背面接触。它由两个聚醚醚酮 (PEEK) 气密室组成，每个室都配有蓝宝石晶片，作为照明窗口，允许光辅助多孔硅形成。它非常适合水性（FKM/EPDM O 形圈）和有机溶剂（FFKM O 形圈）电解质要求。硅基板安装在这些腔室之间，并在磁性安装下用 O 形圈密封（可根据要求提供螺钉版本）。使用此电池只需一个简单的蚀刻步骤即可制备整个多孔硅基板，确保高重现性。
Redox.me双槽锈蚀池应用说明
双槽蚀刻槽通常用于通过阳极氧化制造多孔硅膜
多孔硅的形成过程通过在两个铂电极（不包括在内）
之间施加电流以恒电流方式进行。在此过程中，
可以通过外部灯（通常为卤素灯或 LED，不包括在内）
照亮硅基板的一侧或两侧。如果不需要照明，
可以安装盲盖。主要工艺参数是：电流密度和蚀刻时间。
在此槽中，无需在硅水上准备额外的金属接触以确保电接触。
其他应用包括硅基板的电解抛光、电沉积和电化学表征。
Redox.me双槽锈蚀池规格
标称曝光面积：1 cm 2（其他值可根据要求提供）
小电解液体积：2x10 mL
大电解液体积：2x15 mL
电极塞直径：6 mm
建议硅晶片尺寸：25 mm x 25 mm
Redox.me双槽锈蚀池Intrastat 数据
原产国：瑞典
净重：300 克
产品包括
2 x 盖子 – 0001CPEMA
2 x 腔室 – 0053CPEMAMM
2 x 窗口支架 – 0042PSSMA
2 x 蓝宝石窗口 – 0054PSPCM
2 x 螺丝组 – 0032PNYCM
2 x 柱子 – 0031PSSMA
2 x 插头 – 0005CPEMA
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