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surpass大口径等离子刻蚀设备
本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。 参考价面议 -
surpass工业级电阻电子束蒸发设备
本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜， 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶（树脂）件上镀制增透膜和截止膜等各种膜系镀膜。为满足广大用户的不同需求，我公司可接受多种形式的真空镀膜机的定制要求，包括对真空室体尺寸、真空系统配置、工件夹具系统、工件烘烤系统、膜厚监控系统、蒸发源系统、充气系统、离子源系统以及电气控制系统的特殊定制。 参考价面议 -
Research热蒸发真空镀膜设备
该设备可选配电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统，过流部件均采用SUS304制造，真空系统后置，标准配置分子泵系统，标配工业级人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式自由切换，能够满足工业客户小批量生产和科研院所客户科研实验的需求。该系列设备不提供全手动操作控制系统。 参考价面议 -
IBE350超迈干法刻蚀设备
刻蚀设备在半导体行业中占据着至关重要的地位，可以实现纳米级的精密刻蚀。对复杂微结构的器件加工，微电子器件的制造提供重要支持，在芯片领域发挥着关键作用。 参考价面议