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芯片电子行业超纯水设备
电子超纯水设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准 参考价面议 -
食品、饮料行业纯水设备
反渗透纯水设备采用全自动控制方式，减少人为失误操作对设备带的影响 参考价面议 -
混床树脂超纯水设备
间歇式离子交换这种操作方式是将离子交换树脂和待处理的原水混合加以适当搅拌，基本达到交换平衡，使平衡后的水质萍踪设计需求 参考价面议 -
电子工业纯水设备
反渗透纯水设备采用全自动控制方式，减少人为失误操作对设备带的影响 参考价面议 -
蓄电池生产纯水设备
反渗透纯水设备采用全自动控制方式，减少人为失误操作对设备带的影响 参考价面议 -
半导体超纯水设备
半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备，需要符合特定的用水水质标准,半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准 参考价面议 -
水驻极超纯水设备
水驻极超纯水设备是应用于制造高质量的超纯水设备，需要符合特定的用水水质标准,水驻极超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准 参考价面议 -
电镀、玻璃清洗纯水设备
反渗透纯水设备采用全自动控制方式，减少人为失误操作对设备带的影响 参考价面议 -
化妆品制造纯水设备
反渗透纯水设备采用全自动控制方式，减少人为失误操作对设备带的影响 参考价面议 -
化工用水纯水设备
反渗透纯水设备采用全自动控制方式，减少人为失误操作对设备带的影响 参考价面议 -
0.5T反渗透设备
反渗透纯水设备采用全自动控制方式，减少人为失误操作对设备带的影响 参考价面议 -
1.0T反渗透设备
反渗透纯水设备采用全自动控制方式，减少人为失误操作对设备带的影响 参考价面议