全反射X荧光分析技术

全反射X荧光分析技术

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2024-02-09 14:47:03
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江苏迪泰克精密仪器有限公司

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核心技术:基于第三代半导体自主研发,面向痕量和超痕量元素分析的高灵敏度TXRF技术的基础研究,涉及新型光学设计和小型化仪器开发,制样方法、基体效应研究以及与多方法联用的研究

详细介绍

核心技术:


基于第三代半导体自主研发,面向痕量和超痕量元素分析的高灵敏度TXRF技术的基础研究, 涉及新型光学设计和小型化仪器开发, 制样方法、基体效应研究以及与多方法联用的研究。

1.jpg2.jpg
TXRF技术原理示意图基于波导光学TXRF结构示意图
3.jpg4.jpg
波导管(waveguide) 结构示意图Glancing Angle Dependence Of Measured Fluorescence Intensity Of Si And Ca
5.jpg6.jpg
For Multi-element Energy Scale Test Spectrumx-ray Tube Was Operated At 20kv And 500μaMatrix EffectAbsorption And Enhancement


Single element

Cr

Mn

Co

Cu

Ga

Sr

Pb

LLD/ng

0.029

0.021

0.055

0.049

0.052

0.124

0.362

RSD(%n=7)

0. 72

0.81

121

1.49

1.14

2.63


 

Multi-element

S

Sc

V

Mn

co

Cu

Ga

As

Y

LLD/ng

0.63

0.16

0.15

0.13

0.12

0.16

0.18

0.31

0.88

Other report

1.77

0.87

0. 53

0.35

0.23

0.43

0.27

0.50

0. 37


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