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超高灵敏度陀螺检漏设备
此超高灵敏度检漏设备，通过分子泵抽气使检漏室达到超高本底，吸气泵将残留在检漏室内部的氢气分子抽出，四极质谱检测从工件泄漏出的所有氦气，提高了陀螺检漏灵敏度，从而提高陀螺仪的控制精度。本系统的最小可检漏率可达1×10-13Pa·m3/s。本设备适用于陀螺、红外探测器杜瓦等微小精密器件超高灵敏度检漏。 参考价面议 -
陀螺真空钎焊退火设备
该系列设备主要实现在高真空气氛中对陀螺制备材料进行热处理，它是一种具有高精度、高稳定性、高可靠性、长时间连续工作的设备。同时还适用于硅钢片、软磁材料、铜合金等材料的光亮退火；高速钢、模具钢、工具钢、合金钢、钛合金等淬火后光亮回火；消除锻件、焊接件、冷冲压件、工件淬火后残余内应力，防止工件变形开裂，可广泛应用于生产型企业各种器件的热处理。 参考价面议 -
直线式劳埃透镜镀制机
直线式劳埃透镜镀制机，是为高能同步辐射光源（HEPS）研发的仪器装备，用于制备硬X射线纳米聚焦的劳埃透镜膜层。最主要的特点是膜层层数多（数千层甚至更多）且膜层位置和厚度精度高（总位置平均误差小于±5nm，每层的厚度误差小于0.1nm）。为了保证每个膜层的厚度精度，采用磁控溅射技术来实现膜片的制备，其优点是，能够精确控制膜层厚度，重复性好，薄膜与基片结合紧密，薄膜纯度高、致密性好。 参考价面议 -
倍增级磁控镀膜机
倍增级磁控镀膜机主要应用于光电倍增管倍增级表面的锑膜镀制。在膜层制备过程中可实现对光电倍增管的倍增级基底进行烘烤除气、离子轰击清洁、膜层沉积和偏电压辅助、膜厚工艺测试等功能，可进行数字化编程、程序控制和动态监测，能够实时显示、记录、统计、计算、保存、输出各种运行数据，达到精确控制膜厚和沉积均匀性的要求。 参考价面议 -
MPO专用遮光膜镀膜设备
该设备为高真空电子束蒸镀设备，即利用高能量密度的电子束轰击被镀材料，使其气化并沉积在基片表面；此设备为在石英或其它材料表面沉积镍铬合金或其它单金属、合金；设备由立式前开门水冷真空室、真空系统、工装系统、电子束沉积系统、离子轰击系统、加热系统、测量及监控系统、电控系统、辅助系统（机架、工艺气路、压空气路、冷却水路、附件）等组成。 参考价面议 -
立式高温真空除气设备
该设备的主要功能是在高温高真空环境下对金属材料构成部件、组件进行高温真空除气（850 ℃以下），除去材料表面及晶间中吸附的气体。同时，该设备还可用于小尺寸铜与不锈钢零部件的银铜轩焊（1200 ℃）。系统设置两个温度不同、结构各异的加热区，根据不同的用途选择使用不同的加热区工作，节约能源，绿色环保。具有应用领域广、安全可靠、控制精度高等特点。 参考价面议 -
一体机式环模设备
一体机式环模设备是按照的热真空设备制造厂家ACS的产品为原型研发设计的， 设备将真空室、真空机组、温度调整台和控制系统集中到一个结构模块上安装，具有结构紧凑、占地空间小、运输方便、外形美观等特点。 参考价面议 -
真空系统1拖4、热真空试验设备
4个容器共用一套真空系统，真空机组中每台泵都能为全部或部分容器工作，体现备份设计理念，每个容器具有独立的温度调节系统，一套设备可以同时对不同温度要求的产品同时试验，并对获得的相关测试数据进行对比分析和研究。4个独立真空室，既可同时工作，又可独立工作。一套系统兼具低气压试验，热真空试验、热平衡试验和长寿命试验等多种使用功能。 参考价面议 -
真空系统1拖6、长寿命试验设备
6个容器共用一套真空抽气系统，真空机组中每台泵都能为全部或部分容器工作，体现备份设计理念，每个容器上均有独立阀门控制，既可独立工作，也可同时工作。该设备主要用于空间运动部件低气压放电试验、高真空长寿命试验、具有自动化程度高、操作简单方便、长期运转稳定可靠等特点。 参考价面议 -
复合工质深冷机组环模设备
复合工质深冷机组环模设备温度保障系统主要由低温深冷机组、热沉和加热笼构成，它是由深冷机组冷却真空室内的热沉获得低温背景，通过调节加热笼的加热电源输出功率，使真空室空间获得-140℃~+150℃的温度范围。此种制冷方式适用于温度范围适中的中小型环模设备。 参考价面议 -
导热油温度调整台环模设备
导热油温度调整台环模设备温度保障系统主要由温度调整台、热沉和冷板构成，采用导热油机组对热沉制冷作为冷背景，通过调整导热油机组加热器的加热功率及控制其压缩机的运转情况，实现热沉及冷板在-85℃~+150℃可调可控。热沉并配置冷板的设计，实现了在真空环境中辐射和热传导并存，有效提高试件升降温速率。此种制冷方式适用于温度范围较窄、使用频率较高的中小型环模设备。 参考价面议 -
KGC-103
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