KW: 检查显微镜,尼康显微镜,反射照明专用显微镜,日本Nikon显微镜

DT: 日本Nikon ECLIPSE L200N/ L200ND 显微镜用于反射照明观察，除可进行明场、暗场、微分干涉观察之外，更可进行UV（365nm)激发的反射荧光观察。光源采用了预定心电动水银光纤光源。更换灯泡时不用进行灯丝调心和对焦。超高的基本性能之外，更大大提升了观察性、操作性、耐久性。可以观察的**硅片直径为200mm

超高的基本性能之外，更大大提升了观察性、操作性、耐久性

可以观察的**硅片直径为200mm

观察倍率15X～3000X（视目镜和物镜的组合而定）

   ECLIPSE L200N 反射照明专用    ECLIPSE L200ND 反射.透射照明专用

观察性能提升

扩大检查范围的反射荧光观察（L200ND）

反射照明观察，除可进行明场、暗场、微分干涉观察之外，更可进行UV（365nm)激发的反射荧光观察。

对于半导体感光薄膜的残渣、有机EL显示面板的观察发挥了很大的威力。

使用物镜：CFI LU PLAN FLUOR 10X

 硅片的明场观察     暗场观察     微分干涉观察    反射荧光观察

反射荧光观察用的电动水银光纤光源[强光](L200ND)

光源采用了预定心电动水银光纤光源[INTENSILIGHT]。更换灯泡时不用进行灯丝调心和对焦。

灯箱可与主机分离设置，以降低光源发热对显微镜的影响。6段式的调光机能和快门机能，实现了良*的操作性。

约2000小时超长使用寿命的灯泡大幅降低了使用成本。

 操作性能提升、理环保

比12V100W更亮的高亮度12V50W卤素灯采用了12V50W的[LV-LH50PC预定心灯箱]，与12V100W相比，耗电量削减了约*半，又可达到与其同等甚至更亮的亮度。

灯丝位置经过优化设计，且灯箱里有反光镜，使照明视场均匀，并提高照明效率。特别是用到50倍以的高倍物镜时，能得到比12V100W亮约20%的观察图象。

更环保，也能防止因热量而造成的焦面偏移的干扰。 

抗污染的防静电涂层

主机、载物台、镜筒均涂有消静电涂层。为了提高抗污染能力，防止工件因静电感应而受损，从而提高成品率。

可调节到**位置进行观察的正立调倾式三目镜筒

视场数25的超大视场，可任意设定0～30°的观察角度。根据使用者体型和观察姿势的不同，可将三目镜筒调节到**位置松随意的进行观察。

 载物台微调手轮无需移动工件

不用移动工件，载物台微调手柄位置固定于显微镜主机操作部旁。

所有的操作部都尽在手边，移动载物台、对焦等显微操作，不用抬手，只需动动手腕*可轻松执行。

耐久性比以前高3倍的电动通用物镜转换器

最多可以安装到6个物镜。和偏心较小的物镜结合使用，用高倍物镜观察时切换倍率也很少会出现图象闪动现象。

从低倍到高倍的自由切换更稳定。考虑到使用者，在旋转物镜转换器时会自动切断照明光路，避免光直接照射使用者眼晴。

对焦目标

对焦目标可移入光路，这*特性对于裸硅片之类的低对比度工件的正确对焦成为方便。

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显微镜操作部位集中于底座前部

操作手轮、按键等，都集中于底座前部，更便于使用。*看*能快捷高效的进行显微操作。大大减轻了长时间观察的疲劳感。

获取**图象，提升与显微镜用数码相机的联动力

 实现了从观察到图象拍摄、分析的**整体化

  ·尼康开发提供了便于使用的显微镜、数码相机和软件*体化的高机能设备系统。

  ·支持从设定**观察条件，到数码拍摄→处理→分析的整个流程。

用于LSI检查显微镜 ECLIPSE L200N

Wafer Loader NWL200系列    

 与ECLIPSE L200N相结合，对应的硅片检查需要。

 运用独立的尼康技术，稳定传输超薄型100um硅片。