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¥1080随着电子产品的应用领域在不断的扩大,半导体涉及的行业也越来越广泛,半导体工业不仅对于纯水的要求高,在产品制作的过程中将会产生大量的工业污水,因生产产品的原材料不同,所以产生的废水的废水性质也不同。
废水处理难点:
1、半导体废水处理污染物种类多,成分复杂;
2、含有多种重金属、氟、硅以及有机废水等;
3、含有高浓度的极细悬浮颗粒;
4、工业的污水排放量大;
5、废水浓度低,水质变化大;
6、废水中含金属离子种类较多,需分开收集进行处理;
工艺流程:
含氟废水:半导体含氰清洗水的处理一般采用两级碱性氧化法处理工艺,半导体废水处理设备设有机械搅拌系统、PH控制系统、ORP控制系统以及加药(酸、碱、氧化剂)系统,将废水pH值调节在10.5-11之间,ORP值300- -4oo mv,进行一级氧化破氰,反应时间为15 ~ 20min。
当进行二级氧化破氰时,废水的pH值调节在pH在10.5-11之间,ORP值300- -4oo mv,反应时间15 ~ 20min,将CN-氧化就为CN0-。
有机废水一般采用经济高效的生化法,如单独的好氧法或与缺氧法、厌氧法组合工艺,对于废水中COD、氨氮、总氮等常规污染物去除效果非常可观。.
金属离子废水则需针对不同废水不同种类进行选择,常用的有化学沉淀法、吸附法、离子交换法等。