半导体硅片晶圆温度检测监测 晶圆测温系统

TC Wafer晶圆测温系统是将高精度温度传感器镶嵌在晶圆表面，对晶圆表面的温度进行实时测量。通过晶圆的测温点了解特定位置晶圆的真实温度，以及晶圆整体的温度分布，同还可以监控半导体设备控温过程中晶圆发生的温度变化，获得升温、降温以及恒温过程期间的温度温度数据，从而了解半导体设备的温度均匀度。

原理

TC Wafer晶圆测温系统利用热电效应来测量温度。其基本原理是在晶圆表面埋入微小的热电偶元件，当晶圆表面温度发生变化时，热电偶产生微弱的电压信号。通过测量这些电压信号，可以准确地计算出晶圆的温度变化。

TC Wafer晶圆测温系统优势

高精度：由于其直接嵌入在晶圆表面，可以实现对晶圆温度的实时、精确监测。

可靠性：传感器材料稳定，适应长期运行，不易受到外界干扰。

高灵敏度：微小的温度变化也能被传感器准确地捕捉，确保制程的稳定性。

即时性：传感器的实时性能使得生产线上的温度调整能够迅速响应，减少生产过程中的温度波动。

TC Wafer晶圆测温系统中具有广泛应用

晶圆热处理：在晶圆加工过程中，需要对晶圆进行精确的温度控制，以确保所需的材料性能和结构。

晶圆降温：晶圆从高温状态降温时，需要监测温度变化，以避免温度梯度引起的应力和热应力。

薄膜沉积：在薄膜沉积过程中，温度的精确控制可以影响薄膜的厚度、均匀性和质量。

等离子体刻蚀：温度变化可能会影响刻蚀速率和表面质量，因此需要实时监测和控制温度。

半导体硅片晶圆温度检测监测 晶圆测温系统