全套电子自动化流量控制（AEFC，Automated Electronic Flow Control）
网络化数据通讯及远程控制系统 （LAN communication）
检测器设计 （Advanced detector design）
全部汉化的键盘和软件操作界面 （Chinese version of keypad and software）
*的电源分配管理分流器 (Patented power supply management)
苛刻的环境测试（高温高湿） （Strict environment test for QA）
精密的程序升温炉膛温度控制 (Precise programmable oven temperature control)
独立加热小柱箱 （Separated columns oven)
*的分析结果重复精度 (High reproducibility of analysis results)
强大的自检及报错功能 (Strong function of self-diagnostic)
可实现序列自动运行 (Sequence Run Available)
各种阀配置满足气体分析 (Comprehensive Valve Configuration for Complicated Analysis)
微气路切割技术实现多位色谱及反吹功能 (Sandwich plate device for two dimension GC and/or back-fluch etc.)

柱温箱

炉膛尺寸:28×30×18 cm
操作温度范围：高于室温5℃～400℃
温度设定精度：1℃
程序升温zui高阶数:7阶
zui高程序升温速度: 120℃/min
zui长一次方法运行时间：999.99min
可运行柱流失补偿（双通道）

进样口

双通道进样口
进样口类型可选：
填充柱进样口（带隔垫吹扫，可接大口径毛细管柱）
毛细管柱分流/不分流进样口）
分流/不分流毛细管柱进样口
高精度电子压力/流量控制
zui高使用温度400°C
柱头压力设定范围：0-100psi
柱头压力控制设定精度：0.01psi
总流量设定范围：
0 —1000 mL /min（氦气）
0 —200mL/min（氮气）
流量设定精度：0.1 mL /min
zui大分流比：1：1000

氢火焰离子化检测器（FID）

高精度电子流量/压力控制
适配与填充柱和毛细管柱
zui高使用温度450°C
zui小检出限：<2.5皮克碳/秒
动态线性范围：107（+10%）
数据采集频率：zui高100HZ

热导池检测器（TCD）

高精度电子流量/压力控制、
适配于填充柱和毛细管柱、
zui高使用温度300℃、
数据采集频率：zui高100hz、
动态线性范围:105(±10%)、
zui小检出限：<400皮克 丙烷/毫升（氦气）

电子捕获检测器（ECD）

高精度电子流量/压力控制
适配与填充柱和毛细管柱
zui高使用温度400 °C
隐性阳极（带吹扫）
检测器补偿气类型：5%甲烷/氩气或者氮气
数据采集频率：zui高100HZ
动态线性范围：>5X105
zui小检出限：<0.01mCi  63Ni

氮磷检测器（NPD）

高精度电子流量/压力控制
适配与填充柱和毛细管柱
zui高使用温度450 °C
zui小检出限：<3皮克 碳/秒
动态线性范围：105N，105P
数据采集频率：zui高100HZ
zui小检测限：<0.2pg N/sec,<0.2pgP/sec
选择性：25,000:1 gN/Gc,75,000:1 gP/Gc