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000003显影制程清洗机
2～8寸晶圆片清洗
批量产能：
8寸25PCS/批
工艺流程：
QDR←显影→QDR←显影→QDR
工艺槽功能：
循环过滤+加热冷却+上下抖动+硅片滚动
主要材料：
金属骨架+PVC/PPW壳板，槽体采用PPN/PVDF材质
运送方式：
手动传送
节拍时间：
依工艺5～15min可调
其他说明：
此设备 参考价面议 -
00001兆声清洗机
1. 尺寸（参考）：约 6200W×2000D×2400H（（具体尺寸根据实际图纸确定）
2. 清洗件规格：一次性可清洗8寸晶片 两篮
3. 典型生产节拍：5~10min/篮（清洗节拍连续可调）
4. 门：PVC透明视窗 参考价面议 -
00001去胶清洗机
1. 尺寸（参考）：约 6200W×2000D×2400H（（具体尺寸根据实际图纸确定）
2. 清洗件规格：一次性可清洗8寸晶片 两篮
3. 典型生产节拍：5~10min/篮（清洗节拍连续可调）
4. 门：PVC透明视窗 参考价面议