Hellma氟化钙LD-A-级CaF₂ 193nm满足高精度光学要求
时间：2026-02-09 阅读：82
Hellma氟化钙LD-A-级CaF₂ 193nm满足高精度光学要求
高的光学均匀性，满足高精度光学系统要求
LD-A-级CaF₂晶体的光学均匀性（折射率均匀性）达到Δn≤1×10⁻⁶/cm，属于Hellma高等级的光学均匀性规格，远优于普通A-级CaF₂（Δn≤5×10⁻⁶/cm）。这一特性确保193nm深紫外光在晶体内传输时，折射率无局部波动，避免光束波前畸变，尤其适配半导体光刻、深紫外干涉仪等对波前精度要求高的应用场景。
晶体的双折射效应控制在≤5×10⁻⁷，在193nm波段无明显的偏振相关损耗，可满足偏振敏感型深紫外光学系统的使用要求；同时，晶体的应力双折射经退火消除处理，内部应力≤0.5 nm/cm，避免因应力导致的光学性能衰减，保障元件长期使用的稳定性。
优异的热学与机械特性，适配工况
Hellma LD-A-级CaF₂晶体针对193nm波段激光应用优化热学性能，其热膨胀系数为18.9×10⁻⁶ K⁻¹（20℃~200℃），热导率达9.7 W/(m·K)，远高于石英玻璃（热导率1.4 W/(m·K)），在高功率193nm激光辐照下，晶体的热畸变系数≤0.001 rad/m，可有效散发热量，避免因局部过热导致的光学性能退化或晶体开裂。
机械特性方面，该晶体的维氏硬度为158 HV，抗弯强度≥80 MPa，经边缘倒角与强化处理后，抗冲击能力提升30%，可耐受光学系统装配与使用过程中的轻微机械振动或冲击，无崩边、碎裂风险；晶体的解理面经特殊工艺钝化，避免因解理面开裂导致的元件失效，适配工业现场的严苛使用环境沈阳汉达森yyds吴亚男。