氮化铝陶瓷基片晶体

氮化铝陶瓷基片晶体

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2021-06-24 17:31:02
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西安齐岳生物科技有限公司

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产品简介

氮化铝陶瓷基片晶体
氮化铝陶瓷基片,热导率高,电性能好、热膨胀系数与Si片接近,强度高,,耐化学腐蚀,电阻率高,介电损耗小,性,是取代BeO陶瓷的材料,是的大规模集成电路散热基板和封装材料。

详细介绍

氮化铝陶瓷基片晶体

 

氮化铝陶瓷基片(AlN)

      AlN陶瓷基片是陶瓷基片,具有很高的热导率(理论值为319W/m.K,商品化的AlN基片热导率大于140W/m.k)、较低的介电常数(8.8)和介电损耗(~4×104)、以及和硅相配比的热膨胀系数(4.4×104/℃)等特点,化学组成 AI 65.81%N 34.19%,比重3.261g/cm3,白色或灰白色,单晶无色透明,常压下的升华分解温度为2450℃

       氮化铝陶瓷基片,热导率高,电性能好、热膨胀系数与Si片接近,强度高,,耐化学腐蚀,电阻率高,介电损耗小,性,是取代BeO陶瓷的材料,是的大规模集成电路散热基板和封装材料。

      主要应用于:高密度混合电路、微波功率器件、电力电子器件、光电子部件、半导体致冷等产品中做基片材料和封装材料,应用于通讯器件、 高亮度LED、电力电子器件等行业。

产品特点

高导热性

热膨胀系数跟Si接近

的性能

较低介电常数和介质损耗

AlN(氮化铝)陶瓷基片主要性能指标

性能内容

性能指标

体积密度 (g/cm3)

3.335

抗热震性

无裂纹、炸裂

热导率 (30℃, W/m.k)

≥170

膨胀系数 (/℃, 5℃/min, 20-300℃)

2.805×10-6

抗强度 (MPa)

382.7

体积电阻率(Ω.cm)

1.4×1014

介电常数(1MHz)

8.56

化学稳定性 (mg/cm2)

0.97

击穿强度 (KV/mm)

18.45

表面粗糙度(μm)

0.3~0.5

翘曲度(length‰)

≤2‰

外观/颜色

致密、细晶/ 暗灰色

 

纯度:99%

 

 颜色:灰白色

 

 尺寸:100x100x1.0mm以内或者根据客户的要求切割

 

 毛坯,单双抛

 

 表面粗糙度: < 10nm(抛光)

供应产品目录:

 

硒化钨晶体(硫掺杂)(99.995%) WSSeWSSe Crystals
二硒化钨钯晶体(99.995%) PdSe2PdSe2 Crystals
硒化铟晶体(99.995%) InSeInSe Crystals
二硒化钨晶体(99.995%) WSe2(Tungsten Diselenide)-N型
二硒化钼晶体(99.995%) 2H-MoSe2(Molybdenum Diselenide)-N型
三硒化锆晶体(99.995%) ZrSe3(Zirconium Triselenide)
硒化锆 ZrSe3(Zirconium Triselenide)
硒化金 AuSe(alpha phase Gold Selenide)
二硒化锆晶体(99.995%)ZrSe2 (Zirconium Selenide)
二硒化钨晶体(99.995%)WSe2(Tungsten Diselenide)-P型
二硒化钒晶体(99.995%)VSe2 (Vanadium Diselenide)
二硒化钛晶体(99.995%)1T-TiSe2(Titanium Selenide)
二硒化钽晶体(99.995%)2H-TaSe2 (Tantalum Selenide)
二硒化锡晶体(99.995%)SnSe2 (Tin Selenide)
二硒化铼晶体(99.995%)ReSe2(Rhenium Selenide)
二硒化铂晶体(99.995%)PtSe2 (Platinum Selenide)
二硒化铌晶体(99.995%)2H-NbSe2(Niobium Selenide)
硒化钨钼晶体(99.995%)MoWSe2(Molybdenum Tungsten Diselenide)

 

 温馨提示:西安齐岳生物供应产品用于科研,不能用于人体
yyp2021.6.24

氮化铝陶瓷基片晶体

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