N-乙酰-D-*
98%

Product Name: N-Acetyl-D-alanine

别名: N-乙酰-D-*
CAS号: 19436-52-3
分子式: C5H9NO3
分子量: 131.13
EINECS编号: 243-066-8
MDL号: MFCD00063133

HZM120195        SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:0.1-1μm,单位:5mg/ml
HZM120196        SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:1-2μm,单位:10mg/ml
HZM120198        SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:3-4μm,单位:10mg/ml
HZM120199        SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:4-5μm,单位:10mg/ml
HZM120201        SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-Epoxy,粒径:1-2μm,单位:10mg/ml
HZM120204        SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-Epoxy,粒径:4-5μm,单位:10mg/ml
HZM120207        SLE 包埋式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-SiOH,粒径:2-3μm,单位:10mg/ml
HZM120210        SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-NH2,粒径:0.1-1μm,单位:5mg/ml
HZM120212        SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-NH2,粒径:2-3μm,单位:10mg/ml
HZM120213        SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-NH2,粒径:3-4μm,单位:10mg/ml
HZM120215        SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:0.1-1μm,单位:5mg/ml
HZM120216        SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:1-2μm,单位:10mg/ml
HZM120218        SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:3-4μm,单位:10mg/ml
HZM120219        SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-COOH,粒径:4-5μm,单位:10mg/ml
HZM120221        SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-Epoxy,粒径:1-2μm,单位:10mg/ml
HZM120224        SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-Epoxy,粒径:4-5μm,单位:10mg/ml
HZM120227        SLC 核壳式二氧化硅磁性微球, 基质:SiO2,表面基团:-SiOH,粒径:2-3μm,单位:10mg/ml
HZP100082        硅酸钾, AR，无水级
HZP112425        氟硅酸钾, AR,99.0%
HZS104575        二氧化硅, GR
HZS104577        二氧化硅, SP
HZS104578        二氧化硅, 99.99% metals basis,粒径:2μm
HZS104583        亲水性气相纳米二氧化硅Hydrophilic-200型, 99.8%,比表面积（BET）：200m2/g;粒径：7-40nm
HZS104585        纳米二氧化硅, 99.5%,50±5nm
HZS104586        二氧化硅晶体, 99.999%,直径2mm,高度10mm,圆柱体状
HZS104588        亲水性气相纳米二氧化硅Hydr, 99.8%,比表面积（BET）：300m2/g；粒径：7-40nm
HZS104589        疏水气相纳米二氧化硅Hydro, 99.8%,比表面积（BET）：170m2/g；粒径：7-40nm
HZS104591        疏水气相纳米二氧化硅, 99.8%,比表面积（BET）：230m2/g；粒径：7-40nm
HZS104597        纳米二氧化硅, 99.5%,15±5nm
HZS104600        亲水性气相纳米二氧化硅Hydrophilic-150型, 99.8%,比表面积（BET）：150m2/g；粒径：7-40nm
HZS104650        碳化硅, 99.9% metals basis