Redox.me双槽锈蚀池应用
时间:2024-09-10 阅读:39
Redox.me双槽锈蚀池一个水平安装的双槽电池,通常用于硅晶片的阳极氧化,电解质背面接触。它由两个聚醚醚酮 (PEEK) 气密室组成,每个室都配有蓝宝石晶片,作为照明窗口,允许光辅助多孔硅形成。它非常适合水性(FKM/EPDM O 形圈)和有机溶剂(FFKM O 形圈)电解质要求。硅基板安装在这些腔室之间,并在磁性安装下用 O 形圈密封(可根据要求提供螺钉版本)。使用此电池只需一个简单的蚀刻步骤即可制备整个多孔硅基板,确保高重现性。
Redox.me双槽锈蚀池应用说明
双槽蚀刻槽通常用于通过阳极氧化制造多孔硅膜
多孔硅的形成过程通过在两个铂电极(不包括在内)
之间施加电流以恒电流方式进行。在此过程中,
可以通过外部灯(通常为卤素灯或 LED,不包括在内)
照亮硅基板的一侧或两侧。如果不需要照明,
可以安装盲盖。主要工艺参数是:电流密度和蚀刻时间。
在此槽中,无需在硅水上准备额外的金属接触以确保电接触。
其他应用包括硅基板的电解抛光、电沉积和电化学表征。
Redox.me双槽锈蚀池规格
标称曝光面积:1 cm 2(其他值可根据要求提供)
小电解液体积:2x10 mL
大电解液体积:2x15 mL
电极塞直径:6 mm
建议硅晶片尺寸:25 mm x 25 mm
Redox.me双槽锈蚀池Intrastat 数据
原产国:瑞典
净重:300 克
产品包括
2 x 盖子 – 0001CPEMA
2 x 腔室 – 0053CPEMAMM
2 x 窗口支架 – 0042PSSMA
2 x 蓝宝石窗口 – 0054PSPCM
2 x 螺丝组 – 0032PNYCM
2 x 柱子 – 0031PSSMA
2 x 插头 – 0005CPEMA
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