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英国Emitech全自动磁控离子溅射仪K550X具有旋转样品台,它也可倾斜,适合各种样品使用。预选择参数及全自动控制使得精确镀层及重复范瘸粱奖恪4诺绻馨惺褂玫偷缪梗商岣咝剩琄550X能得到精细的颗粒,由于是冷溅射,所以无需冷却靶面或样品台。
腔室直径为165 mm(6英寸),非常方便装载及移走样品。
仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶(或用户选择),提供适合的性能价格比。可选靶材包括金/钯,铂/钯和铂。
功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计,的“up-time”,这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。
溅射参数可被预先设置,包括气体放气针阀,此阀为电磁阀,一旦设置,它就不需要再调节。溅射头互锁,系统可容易选配K250镀碳附件。本仪器为全自动操作,可控制独立的真空泵。
英国Emitech全自动磁控离子溅射仪K550X的特点
1、全自动控制
2、低电压溅射
3、高分辨率精细涂层
(金颗粒可达2 nm)
4、具有倾斜葜玫奶厥庑?br /> 5、均匀厚度沉积
(扫描电镜一般厚度为20nm 或200埃)
6、165 mm(6英寸)腔室
优点
(1)易操作
(2)无需冷却样品台
(3)精确的再次涂层
(4)适合各种样品
(5)膜厚度重复性好
(6)容易装载或卸载样品
(7)可预设沉积厚度
英国Emitech全自动磁控离子溅射仪K550X的技术参数
1、仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 重量:18公斤
2、工作腔室:硼硅酸盐玻> 165mm Dia x 125mm H
3、安全钟罩:聚碳酸酯
4、靶:60mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面)
5、样品台直径为50mm,靶面距离40mm,具有倾斜装置的旋转台
6、真空范围:ATM-1x10-2 mbar
7、溅射电流:0-50mA
8、沉积速率:0-25nm/分
9、溅射定时: 0-4 分钟
10、预设置针阀:控制氩
11、电源:230 伏 50Hz