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生产厂家北京海富达科技有限公司成立于2014年,是实验设备、平台综合解决方案提供商。公司专业为国内企事业单位提供仪器仪表,实验设备以及整体解决方案。
公司与国外多家生产商已建立长期合作关系。公司经营产品广泛,灵活满足不同事业单位和企业客户的差异化需求的追求,产品故障率低,维护成本小,性能,售后服务完善。公司所有产品在行业内均有持续的应用历史并经过市场实际应用检验。
坚持以持续技术为客户不断创造价值为经营理念,公司在产品研发方面投入比例逐年递增,目前自主研发并投入市场的产品已达十余种,长期以来,公司一直按照标准,搭建国内实验室平台,构建高标准、持续发展体系。坚持稳步发展的管理理念,不断刷新自己在业内的记录
三氧化二硼硼硅片 型号:ZJ333-PWB2
产品名称:三氧化二硼硼硅片
产品型号:PWB2
产品规格:100*4mm
微晶玻璃片状扩散源
使用说明书
一 前言
PWB-硼微晶玻璃片状扩散源是一种的扩散源,它适用于半导体元器件和集成电路的硼扩散工艺,具有稳定性、均匀性,目前已被半导体行业应用。
三氧化二硼硼硅片 型号:ZJ333-PWB2
二 规格与参数
(1)规格
PWB1淡硼 PWB2浓硼
特殊规格 Φ40*1.5mm 特殊规格 Φ40*2.5mm
特殊规格 Φ45*1.5mm 特殊规格 Φ45*2.5mm
2英寸 Φ50*1.5mm 2英寸 Φ50*2.5mm
3英寸 Φ76.2*3mm 3英寸 Φ76.2*3mm
4英寸 Φ100*4mm 4英寸 Φ100*4mm
(2)参数
PWB1淡硼 PWB2浓硼
硼含量 B2O3≥43% B2O3≥45%
膨胀系数 49*10-7+3*10-7/℃(20℃~400℃)
扩散温度 900℃~1050℃
方块电阻 RS≥30Ω/□ RS≥15Ω/□
(根据其他条件不同,RS值可以有所差异)
三 使用说明
(一)源片清洗方法
主要是去-除源片表面所沾染的杂质。有以下两种方法:
(1) A 用丙酮棉花擦洗表面后,在乙醇中漂洗2~3秒;
B 用50℃~60℃的去离子水冲洗1~2分钟;
C 冷去离子水冲洗10~15分钟;
D 用红外灯烘4~5小时。
(2) A 用丙酮与乙醇棉花先后擦洗源片正反两面及四周;
B 用50℃~60℃的去离子水冲洗1~2分钟;
C 冷去离子水冲洗10~15分钟;
D 用红外灯烘4~5小时。
源片的清洗和烘干应连续进行,在红外灯烘干的过程中,如源片出现发黑现象,说明有-机溶剂未冲洗干净,烤源时通少量氧气,即可除-去。
经清洗和烘干以后的源片,即可放入石英管中随炉升温烤源。