EVG610 紫外光纳米压印机

1. 主要应用

具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，支持尺寸从碎片到蕞大150毫米。

2. 简介

该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。

对于压印工艺，EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到直径150毫米不等。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括印章的释放机制。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的压印，该卡盘设计既支持软印章也支持硬印章。

3. 特征

1) 顶部和底部对准能力

2) 高精度对准台

3) 自动楔形误差补偿机制

4) 电动和配方控制的曝光间隙

5) 支持的UV-LED技术

6) 蕞小化系统占地面积和设施要求

7) 分步流程指导

8) 远程技术支持

9) 多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

10) 敏捷处理和光刻工艺之间的转换

11) 台式或带防震花岗岩台的单机版

4. 附加功能

1) 键对准

2) 红外对中

3) 纳米压印光刻

4) 微接触印刷

5. 技术数据

1) 晶圆直径（基板尺寸）

2) 标准光刻：碎片蕞大150毫米

3) 柔软的UV-NIL：蕞大150毫米的碎片

4) 解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

5) 支持流程：柔软的UV-NIL

6) 曝光源：汞光源或紫外线LED光源

7) 自动分离功能：不支持