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Saphir Vibro 振动抛光机
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详细信息
Saphir Vibro 振动抛光机为得到无残留变形的制备表面而设计，是用于进一步材料表征，如 EBSD（背散射电子衍射），AFM （原子力显微镜）分析和纳米压痕或显微硬度测试的理想前序设备。
■ 特 点：
可快速更换的带磁性系统的抛光池
从 60-120 Hz 的自动频率控制
“Surface-Guard” 功能降低试样磨料结晶和试样表面腐蚀的机率
预先安装好的制备方案和耗材清单
低工作噪音和吸振式结构设计
软闭合式防护罩和排气接口
可存储多达 200 个制备程序
■ 参 数：
| 抛光池内径 | Ø 308 mm (抛光布直径 Ø300 mm or Ø305 mm) |
| 振动频率 | 60 - 120 Hz |
| 接口 | USB, Ethernet |
| 连接电源 | 0.25 kVA |
| 运行功率 | 135 VA |
| 宽 x 高 x 深 | 510 x 300 x 590 mm |
| 重量 | ~ 45 kg |
Saphir Vibro.pdf
