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硅片缺陷观测仪：HS-WDI
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详细信息
产品介绍：
硅片缺陷观测仪(HS-WDI)，于对硅片的缺陷进行观察，效果非常明显，包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等。
实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果。
产品特点：
■ 适用于对硅片的缺陷观察效果，非常明显，包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等；
■ 使硅片缺陷观察工作简单化，准确化，同时极大程度降低此项工作强度；
■ 实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果；
■ 使用 1/2"CMOS 感光芯片，具有体积小，技术，像素较高， 成像清晰 、线条细腻、色彩丰富；
■ 传输接口为 USB2.0 高速接口， 软件模块化设计；
■ 有效分辨率为 200 万像素；
■ 所配软件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系统。
实际观察效果：
硅片放大效果100倍
硅片放大效果200倍
硅片放大效果400倍
推荐工作条件：
■ 温度：23±2℃
■ 湿度：60%~70%
■ 无强磁场、不与高频设备邻近
典型用户：
浙江昱辉、江西塞维ＬＤＫ、常州天合等
