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主营产品公司介绍
仪器名称:化学机械抛光机
品牌: 布鲁克
型号:TriboLab CMP
产地:美国
仪器介绍:
1.加载方式:伺服控制闭环加载; 2.样片夹持方式:水表面张力吸附夹持; 3.抛光速率(硅晶圆片):300nm/min; 4.最小粗糙度(硅晶圆片):1nm;
5.化学机械抛光机主要用于Si、SiC、Ge、GaN等半导体材料,SiO2、Si3N4、CeO2、GeO、Al2O3等金属氧化物以及Al普通金属和Au、Pt等惰性金属的化学机械抛光工艺。
台式调速抛光机 型号:TMS-2
自动研磨抛光机 型号:GUA1-UNIPOL-1502
赫尔纳供应德国Euracryl抛光机
抛光机
赫尔纳供应德国monti打磨机、抛光机MBX SP4
瑞士KrämerKCP10系列胶囊抛光机
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