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高真空磁控溅射仪NE-650MH
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纳恩科技始创于2010年，总部位于深圳市,在香港设有研发分公司,是一家专注于等离子材料表面清洗处理、真空镀膜技术和智能装备研发，制造和销售的高科技公司。目前主要产品包括真空等离子清洗机，磁控溅射镀膜设备，离子溅射仪，等离子刻蚀设备，等离子表面处理设备,辉光放电仪等。公司核心研发团队来源于香港大学等离子实验室,香港理工大学材料工程学院和美国佐治亚理I学院的微电子学院。自成立以来,纳恩科技围绕等离子处理系统所需核心电源及底层算法进行技术布局,不断拓展自主设计能力。目前已完成以MCU, ARM为核心的射频芯片开发平台,实现了芯芯的结构化和模块化开发。具有高精度模拟、网络阻抗匹配、功率驱动、功率器件、射频和底层核心算法的设计能力，可针对不同细分领域等子处理系统需求，快速做出底层硬件组合，提高等离子系统的稳定性和效率。公司着眼于化的战略布局，目前在北京、上海、 成都，厦门均设立办事处,在新加坡，尼黑设有办公联络处。纳恩科技以前沿的创新理念、的核心技术在我国制造装备行业扮演着关键角色，公司坚持负"推动产业进步、保障国防安全、提升生活品质”这一神圣使命,致力成为的等离子技术处理方案供应商,在世界高科技舞台的同场竞技之中，续写中国等离子产业发展的新传奇!
详细信息
NE-650MH 高真空磁控溅射镀膜仪是我公司研制开发的一款经济实用的袖珍型磁控溅射设备,主要由溅射真空室、磁控溅射靶、样品台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的 制备，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，可广泛用于大专、科研 院所的薄膜材料研究、制备。
产品参数：
| 仪器主机尺寸: | 长 610mm×宽 420mm×高 220mm（注：含腔体总高 490mm） |
| 工作腔室尺寸： | 标配：玻璃腔体（高度可选）：直径 260mm×高 200mm（外尺寸） 直径 240mm×高 200mm（内尺寸） |
| 选配：金属腔体：直径 260mm×高 270mm（外尺寸 ） 直径 210mm×高 270mm（内尺寸） | |
| 靶头： | 标配：单靶 |
| 选配：双靶（双靶仪器主机尺寸和工作腔体尺寸会随之增大） | |
| 靶材尺寸： | 直径 50mm×厚 3mm（因靶材材质不同厚度有所不同） |
| 靶材料： | 标配一块直径 50mm×3mm 的铜靶（可选配多种靶材） |
| 靶枪冷却方式： | 水冷 |
| 真空系统： | 抗冲击涡轮分子泵，抽速为 300L/s |
| 前级机械泵： | 抽速为 4L/s，带防返油电磁阀及油污过滤器 |
| 真空测量： | 采用复合真空计监测真空 |
| 极限真空度: | 5×10-5Pa（10 分钟可到 9×10-4Pa） |
电源： | 标配：直流恒流电源：输入电压：220V |
| 输出电压：0-600v | |
| 输出电流：0-1.6A | |
| 选配：射频功率电源：功率 1000W，配射频匹配器。 | |
| 载样台： | 直径 200mm，可根据客户需求定制载样台。 |
| 工作气体： | Ar 等惰性气体（需自备气瓶及减压阀） |
| 气路： | 溅射真空度手动调整（可选配气体质量流量计） |
| 水冷： | 自循环冷却水机 |
| 电源电压： | 220V 50Hz |
| 启动功率 | 3KW |
| 保修 | 贰年 |
磁控溅射镀膜仪原理：
溅射镀膜的原理是稀薄气体在异常辉光放电产生的等离子体在电场的作用下，对阴极靶材表面进行轰击，把靶材表面的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的粒子带有一定的动能，沿一定的方向射向基体表面，在基体表面形成镀层。溅射时产生的快电子在正交的电磁 场中作近似摆线运动，增加了电子行程，提高了气体的离化率，同时高能量粒子与气体碰撞后失去能量，基体温度较低，在不耐温材料上可以完成镀膜。
