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扫描电子显微镜 GVS-1000Plus/GVS-1000
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北京格微仪器有限公司长期致力于打造以用户体验为中心的材料表征领域、材料表面改性等仪器设备研发制造，公司总部位于北京海淀中关村，有多名多年从事真空技术、电子光学、离子光学、表面物理、材料制备等技术人员联合发起，团队全部为硕士以上学历或高级职称，具备专业的表面分析、结构分析、原位分析等应用经验，在科研、产业等领域，沉浸多年，具备独立设计、项目承担、生产制造等综合能力。当前聚焦于具有自主知识产权并具备国际竞争力的电子显微镜样品制备设备，并在高校院所和产业单位得到青睐。
详细信息
描述
主要参数
| 项目 | GVS-1000Plus | GVS-1000 |
| 倍率 | x10~X100,000(底片倍率) x25~X250,000(显示器倍率) | |
| 加速电压 | 5 kV、10 kV、15 kV、20 kV、EDS分析（30kV） | |
| 图像信号 | 背散射电子 | 背散射电子 |
| 真空模式 | 导电模式（高真空模式） | 标准 |
| 样品可移动范围 | X：40 mm Y：35 mm | |
| 样品尺寸： | 80 mm（直径） 50 mm（厚度） | |
| 电子枪 | 预对中钨灯丝电子枪/CeB6/LaB6 | |
| 检测器 | 背散射电子探测器：高灵敏度4分割背散电子探测器 | 背散射电子探测器：高灵敏度4分割背散射电子探测器 |
| 排气系统 | 涡轮分子泵：67 L/s 1台 | |
| 尺寸与重量 | 主体：330（宽度）×614（进深）×547（高度） mm、54 kg（附带马达驱动的样品台） | |
