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等离子体辅助化学气相沉积系统PECVD-片式与卷对卷式PECVD
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北京伯英科技有限公司致力于引进的技术与仪器设备，为中国用户的科研服务。世有伯乐，而后有千里马。公司致力于成为我们的用户所需要的千里马，为用户提供的科研仪器设备与技术服务；公司致力于成为伯乐，致力于挖掘的技术与科研仪器设备，为用户的科研服务；公司致力于成为伯乐，致力于给我们的员工提供的发展平台，共同发展进步。我们的产品可用于胶体与化学表界面，柔性器件镀膜，粉末镀膜，微电子与半导体行业，航空航天电子器件、芯片、集成电路可靠性与失效分析，生命科学分子相互作用，聚合物表面分子构象变化，表面吸附解吸导致的微量质量变化在线监测，混凝土行业，无损超声探伤检测，超声医学成像等方面。
详细信息
PECVD, 支持定制，单片或卷对卷式PECVD。
可用于沉积类金刚石、氧化硅、氧化铝、氧化钛、氮化物、硫化物等类型薄膜。
可用于聚合物薄膜沉积。
可选13.56兆赫、20kHz等离子体。
片式PECVD参数：
真空度10-3Pa，薄膜厚度：10nm-1um，温度范围：400摄氏度，基片大小：6英寸或根据用户要求。设备尺寸：直径350mm，高500mm。
价格35~55万人民币。
卷对卷式PECVD参数：
1分钟100m，1.25m幅宽，卷厚度8um到50um，可用于食品包装，起阻水阻氧作用。
参考价格500万人民币左右。
