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代理商荷兰SPARKNANO薄膜沉积机床Vellum系列赫尔纳供应
荷兰SPARKNANO薄膜沉积机床Vellum系列赫尔纳供应,由赫尔纳德国总部直接采购,近30年进口工业品经验,原装产品,支持选型,为您提供一对一好的解决方案:货期稳定,快速报价,价格优,设有8大办事处提供相关售后服务。
公司简介:
SparkNano 开发和供应用于能源、OLED 和相关应用的空间原子层沉积设备。SparkNano 初成立于 2018 年,是 TNO(荷兰应用科学研究组织)的衍生公司。该公司的产品使其客户能够无缝地从实验室扩展到晶圆厂。除了高质量的设备外,经验丰富的团队还支持流程开发和优化,提供应用支持以及产量和性能管理。SparkNano 位于埃因霍温。
荷兰SPARKNANO薄膜沉积Vellum系列产品介绍:
SPARKNANO薄膜沉积Vellum系列专为片对片 (S2S) 应用量身定制,可在 0.5 x 0.5m 至 1.5 m 的基材上沉积。VELLUM系列是高通量、全自动空间原子层沉积解决方案。Vellum 系列专为超高通量片材应用而设计,可随时集成到您的全自动批量生产过程中。Vellum 系列可以处理刚性基材,如晶圆和玻璃板,也可以处理安装在载体上的灵活箔。
金属或聚合物箔、晶片、玻璃和多孔基材等基材。所有这些都旨在实现高达每分钟 20 个基板的实际生产吞吐量。与各种沉积材料和沉积温度相结合。系统的衬底流处理和在线集成设置将根据整体设置需要进行设计。
荷兰SPARKNANO薄膜沉积Vellum系列优势特点:
Ø 大批量全自动衬底加载和卸载
Ø 衬底尺寸高达 500 mm x 500 mm
Ø 等离子体增强和热原子层沉积
Ø 支持多种前驱体和配方
Ø 无掩模图案沉积
Ø 大气 N2 和 Ar 惰性气体操作模式
荷兰SPARKNANO薄膜沉积Vellum系列技术规格:
Ø 典型的沉积材料:IrO2,Ir,Pt,Al2 O3,TiO2,SiO2,SnO2,ZnO等等
Ø 加工温度:空间热原子层沉积 (ALD) 50°C - 250°C/等离子体增强空间原子层沉积 (ALD) 50°C - 200°C
Ø 生产力:模块化系统根据应用需求进行调整,需要多个沉积室以优化产量
Ø 系统尺寸:2 模块版本 6 米(宽)x 3 米(深)x 2.1 米(高)
荷兰SPARKNANO薄膜沉积Vellum系列主要应用:
薄膜沉积Vellum产品线是一个用于高通量的全自动空间原子层沉积的加工平台。