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DIC微分干涉工业显微镜JXM-4100
特点
DIC微分干涉工业显微镜JXM-4100是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业需求而开发的,作为高级金相显微镜用户在使用时能够体验其性能,可广泛应用于半导体、FPD、电路封装、电路基板、材料、铸件/金属/陶瓷部件、精密模具的检测。本仪器采用了反射和透射两种照明形式,在反射光照明下可进行明暗场观察和DIC观察、偏光观察。在透射光下作明场观察。稳定、高品质的光学系统使成像更清晰,衬度更好。符合人机工程学要求的设计,使您在工作中感到舒适和放松。
参数
技术规格 | |
观察头 | 30°铰链式三目( |
目镜 | WF10×/ |
物镜 | 平场无限远长工作. 距离明暗场物镜: 5×/0.1B.D/W.D. 10×/0.25B.D/W.D 20×/0.40B.D/W.D. 40×/0.60B.D/W.D. |
转换器 | 带DIC插孔四孔转换器 |
平台 | 双层移动平台 |
平台尺寸: | |
移动范围: | |
滤色片 | 插板式滤色片(绿、蓝、中性) |
聚光镜 | N. |
调焦 | 粗、微动同轴调焦,采用齿轮齿条传动机构.微动格值 |
光源 | 透射照明:卤素灯12V/50W, AC85V-230V,亮度可调节 |
落射照明:带孔径光栏和视场光栏,卤素灯12V/50W,AC85V-230V, 亮度可调节 | |
偏光装置 | 检偏镜可360度转动,起偏镜、检偏镜均可移出光路 |
检测工具 | |
特点说明
1. 采用了UIS高分辨率、长工作距离无限光路校正系统的物镜成像技术。
2. 拓展了物镜的复用技术,无限远物镜与所有观察法相兼容包括明暗视野法、偏光法,DIC并在
每一观察法中均提供高清晰的图像质量。
3. 采用非球面Kohler照明,增加观察亮度。
4. WF10×(Φ25)超大视野目镜,长工作距离明暗场金相物镜。
5. 可插DIC微分干涉装置的转换器。