CMSD2000 催化剂研磨分散机

催化剂研磨分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成

催化剂催化剂在化工行业用于催化和加速化学反应。催化剂的造价通常比较高，用量比较少，由无机物衍生而成（如重金属）。催化剂用来为化学反应提供适合的场所，或者成为其中的一种反应物，以促进反应。在这两种情况下，催化剂的活性都是由催化剂与反应物质的接触状况（有效分散）决定的，不断扩充催化剂表面积（防止结块，缩小粒径等）可增强催化剂活性。实践证明，IKN工业设备可以保证催化剂活性得到zui大程度的发挥。催化剂要想效果好,他们催化剂必须充分发挥作用.必须研磨好

研磨分散的效果

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

2 胶体磨磨头头的剪切速率  （越大，效果越好）

3 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4  物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。 

剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
              g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素： 

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

催化剂研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

 催化剂研磨分散机 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

的型号

机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。

3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。