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DWL 2000 GS系列 德国Heidelberg Instruments刻蚀机
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代理商标题:供应德国Heidelberg Instruments刻蚀机 DWL 2000 GS系列
Heidelberg Instruments刻蚀机介绍:
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系统是快速灵活的高分辨率图案生成器。它们针对工业级灰度光刻进行了优化,专为集成电路、MEMS、微光学和微流体设备、传感器、全息图以及**特征的掩模和晶圆的高通量图案化而设计。专业灰度光刻模式可以在大面积厚光刻胶中形成复杂的 2.5D 结构图案。DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 系统具有 500 nm 的最小特征尺寸、高达 400 x 400 mm 2的写入区域和可选的自动加载系统,特别适用于用于电信、照明的晶圆级微光学器件和工业显示器制造,以及生命科学中的设备制造。
Heidelberg Instruments刻蚀机功能参数特点:
² 曝光质量
² CD 均匀性 60 nm;边缘粗糙度 40 纳米;对准精度 60 nm;第二层对准 250 nm;自动对焦补偿 80 µm
² 灰度光刻
² 1000级灰度;专用 GenISys BEAMER 软件,用于优化复杂几何形状的曝光
² 温控流动箱
² 温度稳定性 ± 0.1°,ISO 4 环境
² 曝*速度
² 灰度模式下 200 x 200 mm 2 的面积<60 分钟
² 基板尺寸大
² 高达 20 / 40 厘米
Heidelberg Instruments刻蚀机应用:
² 微光学
² 材料科学
² 微流体等
Heidelberg Instruments刻蚀机主要型号:
² DWL 2000 GS 系列
² DWL 4000 GS 系列